بررسی خواص فوتوکاتالیستی لایه های nio/tio۲ رشد داده شده به روش اکسیداسیون پلاسمای الکترولیتی/ رسوب الکتروفورتیک

در این پژوهش پوشش­های کامپوزیتی متخلخل اکسیدتیتانیم/ اکسیدنیکل با استفاده از روش اکسیداسیون پلاسمای الکترولیتی/ رسوب الکتروفورتیک (peo/epd) تحت جریان مستقیم طی یک مرحله و زمانی کوتاه ساخته شد. هدف اصلی این پژوهش، افزایش فعالیت فوتوکاتالیستی اکسیدتیتانیم با استفاده از سطح ویژه بالا و جفت کردن آن با اکسیدنیکل است. تأثیر ولتاژ اعمالی فرایند بر ساختار فازی، ریخت (مورفولوژی) و توان فوتوکاتالیستی پوشش­ها مطالعه و بررسی­شد. ساختار فازی و ریخت­سطحی لایه­ها به­ترتیب با استفاده از تحلیل xrd و sem بررسی شد. قدرت فوتوکاتالیستی نمونه­ها با اندازه­گیری ثابت سرعت تجزیه ماده 4-­کلروفنل روی سطح نمونه­ها تحت تابش امواج فرابنفش مطالعه شد. نتایج نشان داد که لایه­های ساخته­شده به­طور عمده از فاز آناتاز و هم چنین اکسیدنیکل تشکیل شده­اند که با افزایش ولتاژ مقدار این فازها در پوشش افزایش یافت. پوشش­های کامپوزیتی nio/tio2 توان فوتوکاتالیستی بالاتری از پوشش اکسیدتیتانیم در تجزیه ماده مدل 4-کلروفنل از خود نشان دادند. همچنین نتایج نشان داد که یک مقدار بهینه اکسیدنیکل برای حصول بیشینه توان فوتوکاتالیستی اکسیدتیتانیم وجود دارد.